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　　国家知识产权局信息显示，拓荆科技股份有限公司取得一项名为“薄膜沉积的辅助装置、薄膜沉积设备及排出物的处理方法”的专利，授权公告号CN116875959B，申请日期为2023年7月。

　　天眼查资料显示，拓荆科技股份有限公司，成立于2010年，位于沈阳市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本27972.9118万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技股份有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目104次，财产线条，此外企业还拥有行政许可35个。

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